امکان سنجی تولید جمعیت وارون در گرافن |
1-5-مقایسه گرافن و فلز واسطهی دو بعدی که بین دو مادهی چالکوجنید قرار دارد. 7
1-6-بررسی جرم الکترونها در گرافن و کاربرد گرافن در پیلهای سوختی به عنوان دو
مورد از تحقیقات صورت گرفته روی گرافن.. 8
1-7-بررسی پیشینه تحقیقات صورت گرفته روی لیزر گرافن.. 11
2فصل دوم: محیط فعال لیزر. 14
2-1-مقدمه. 15
2-2-معرفی لیزر و اجزای آن.. 15
2-3-کاربردهای لیزر 16
2-4-لیزرهای نیمه هادی.. 17
2-5-وضعیت نیمه هادی به عنوان ماده فعال لیزر در هنگام دمش توسط منبع انرژی.. 17
2-6-شرط لازم نیمه هادی برای رسیدن به تقویت نوری بعد از دمش…. 19
2-7-گرافن به عنوان ماده فعال لیزر بعد از دمش…. 21
3فصل سوم: بررسی حاملهای گرافن.. 23
3-1-مقدمه. 24
3-2-معرفی طیف نگاری دمش-کاوشگر. 25
3-2-1-طیف نگاری دمش-کاوشگر تبهگن.. 26
3-2-2-طیف نگاری دمش-کاوشگر غیر تبهگن.. 26
3-2-3-چگونگی اندازهگیری واهلش حاملها با طیف نگاری دمش-کاوشگر. 27
3-3-نتیجه طیف نگاری دمش-کاوشگر در مورد واهلش حاملها در گرافن.. 28
3-4-نتیجه طیف نگاری دمش-کاوشگر در مورد خواص نوری گرافن.. 31
3-5-چگونگی مدل کردن گرافن برای شبیه سازی تقویت(براساس نتایج طیف نگاری) 33
3-5-1-مدل اول(مدل پدیده شناختی) 33
3-5-2-مدل دوم(معادله انتقال بولتزمن) 34
4فصل چهارم: بررسی جمعیت وارون در گرافن 37
4-1-مقدمه. 38
4-2-محاسبه رسانندگی الکتریکی گرافن.. 38
4-3-رابطه رسانندگی و تقویت نوری.. 44
4-4-بررسی جمعیت وارون در گرافن از روش پدیده شناختی.. 45
4-5-بررسی جمعیت وارون در گرافن با روش تابع انتقال بولتزمن.. 55
5فصل پنجم: نتیجه گیری و پیشنهادات… 70
منابع…………………………………………………………………………………………………………………………………….71
چکیده و صفحه عنوان به انگلیسی
فهرست شکلها
یک مطلب دیگر :
عنوان صفحه
شکل 1‑1 ساختار لانه زنبوری گرافن با دو اتم در هر سلول واحد. 3
شکل 1‑2 ساختار نواری گرافن.. 3
شکل 1‑3 ذرهای که از محیط 1 میآید اگر نسبیتی باشد طبق پارادوکس کلین از سد عبور
میکند و به محیط 2 میرود. 6
شکل 1‑4 نسبت جرم جمعی الکترونها mc در گرافن به جرم الکترون me در گرافن تحت
ولتاژهای گیت vb مختلف که vb0 آلاییدگی اولیه گرافن را نشان میدهد.
نمودار a مربوط به اندازهگیری در دمای 30 K و نمودار b مربوط به 296
K است.خطوط عمودی در نمودار نشان دهنده خطا است[16]. 9
شکل 1‑5 نوع عملکرد گرافن به عنوان پیل سوختی [17] 10
شکل 2‑1 نیمه هادی ها با انواع آلاییدگی و انرژی فرمی) (µf مختلف الف-نیمه هادی نوع
n که سطح فرمی به نوار رسانش نزدیک شده است. ب- نیمه هادی بدون
آلاییدگی. ج- نیمه هادی نوع p که سطح فرمی به نوار ظرفیت نزدیک
شده است. 18
شکل 2‑2 شبه سطح فرمی. در این حالت دو پتانسیل شیمیایی µc برای نوار رسانش و µv
برای نوار ظرفیت داریم. 19
شکل 3‑1 طیف نگار دمش کاوشگر تبهگن[29] 26
شکل 3‑2 طیف نگار دمش کاوشگر تبهگن[29] 27
شکل 3‑3 فرآیندهای بازترکیب در گرافن بعد از برخورد پالس…. 29
شکل 3‑4 فرآیند اوژه برای a-الکترونها و b-حفرهها [35]. 30
شکل 3‑5 تغییرات عبور که با نشان داده شده بر حسب زمان سپری شده از برخورد
پالس با دقت 85 fs 31
شکل 3‑6 تغییرات عبور بر حسب زمان سپری شده از برخورد پالس با دقت 7 fs 32
شکل 4‑1 گوشه ای از شبکه کلی گرافن.. 39
شکل 4‑2 رسم تابع به ازای a=1.8. 43
شکل 4‑3 رسم تابع به ازای a=1.8. 44
شکل 4‑4 مقایسه تابع اصلی خط و تابع بسط داده شده
خط چین.. 48
شکل 4‑5 مقایسه تابع اصلی خط و تابع بسط داده شده خط چین.. 48
شکل 4‑6 مقایسه تابع اصلی خط و تابع بسط داده شده
خط چین.. 49
شکل 4‑7 مقایسه تابع اصلی خط و تابع بسط داده شده خط چین در مقادیر بالای x. مشاهده میشود هر
چه مقدار زیادتر میشود تطابق بهتر میشود. 50
شکل 4‑8 مقایسه تابع اصلی خط و تابع بسط داده شده خط چین.. 50
شکل 4‑9 تغییرات چگالی حاملها بر واحد سطح بر حسب رسانندگی نرمال شده به رسانندگی شرایط تعادل در حداکثر شدت موج تابانده شده بر اساس نتایج آزمایشگاهی. قسمت خاکستری Gain را نشان میدهد. 52
شکل 4‑10 تغییرات چگالی حاملها بر واحد سطح بر حسب رسانندگی نرمال شده بر
فرم در حال بارگذاری ...
[چهارشنبه 1399-08-07] [ 05:52:00 ب.ظ ]
|